Запрос предложений на выполнение математического моделирования распределения параметров плазмы, оптимизация конструкции и разработка системы оптического контроля плазмы разряда экспериментального и опытного образца реактора для проведения технологических процессов плазмохимического травления (ПХТ) высокоаспектных диэлектрических структур на пластинах диаметром до 300 мм в микроэлектронном производстве уровня 65 нм (ЗД №12)