ТарифыБлогАутсорсинг
info@zakupki360.ru | 8(800)3333-717
Регистрация/вход
На контроль
Размещение завершено

Поставка фоторезиста марки ФП-383 по ТУ 2378-005-29135749-2007

Размещено:03.08.2022
Место поставки
г Йошкар-Ола
Отрасль
-
Начальная цена
0 ₽
Обеспечение заявки
0 ₽
Обеспечение контракта
0 ₽
Номер закупки
RSTB0308221428486
Способ размещения
Иные способы
Документы
Приложение №2 к запросу_ПД
28.11.2022
Формы для заполнения
28.11.2022
Приложение №1 к запросу_ТЗ
28.11.2022
Запрос КП
28.11.2022
Контакты
АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО ЗАВОД ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ
Почтовый адрес
Адрес места нахождения
Контактное лицо
Телефон
Факс
Электронная почта
Информация о контрактной службе, контрактном управляющем
-
Дополнительная информация
Похожие закупки
ОпубликованаЗакупкаНачальная цена
30.08.2023Выполнение работ по техническому перевооружению ОПО «Площадка химического производства полупроводниковых приборов». Автоматизация комплексная и автоматическая установка пожарной сигнализации корпуса №35 В, участка травления, снятия фоторезиста
21.06.2023Поставка фоторезиста марки ФП-383 по ТУ 2378-005-29135749-2007 (или эквивалент).
20.03.2023Проведение открытого запроса предложений с правом заключения договора на выполнение составной части научно-исследовательской работы«Теоретические и экспериментальные исследования процессов получения полимеров для фоторезистов и антиотражающих покрытий для использования в процессе фотолитографии с длинной волны актиничного лазерного излучения 248 нм (KrF)», шифр «Фотолиз-ХФ»
20.03.2023Проведение открытого запроса предложений с правом заключения договора на выполнение составной части научно-исследовательской работы«Подготовка и освоение производства фоторезистов и антиотражающих покрытий для использования в процессе фотолитографии с длинной волны актиничного лазерного излучения 248 нм (KrF)», шифр «Фотолиз-П»
20.03.2023Проведение открытого запроса предложений с правом заключения договора на выполнение составной части научно-исследовательской работы«Испытания фоторезистов и антиотражающих покрытий для использования в процессе фотолитографии с длинной волны актиничного лазерного излучения 248 нм (KrF) в виде пленки», шифр «Фотолиз-М»