ТарифыБлогАутсорсинг
info@zakupki360.ru | 8(800)3333-717
Регистрация/вход
На контроль
Работа комиссии

Проведение открытого запроса предложений с правом заключения договора на выполнение составной части научно-исследовательской работы«Теоретические и экспериментальные исследования процессов получения фоторезистов и антиотражающих покрытий для использования в процессе фотолитографии с длинной волны актиничного лазерного излучения 248 нм (KrF)», шифр «Фотолиз-Н»

Размещено:20.03.2023
Место поставки
Отрасль
-
Начальная цена
0 ₽
Обеспечение заявки
0 ₽
Обеспечение контракта
0 ₽
Номер закупки
RSTCOM21032300091
Способ размещения
Запрос предложений
Документы
Приложение №3 к ЗД_ТЗ Фотолиз-Н 21.03
29.03.2023
Закупочная документация
29.03.2023
Приложение №4 к ЗД_Проект СЧ НИР Фотолиз-Н
29.03.2023
Контакты
АКЦИОНЕРНОЕ ОБЩЕСТВО НАУЧНО ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ МОЛЕКУЛЯРНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ
Почтовый адрес
Адрес места нахождения
Контактное лицо
Телефон
8-985-340-46-06
Факс
Электронная почта
agorbacheva@niime.ru
Информация о контрактной службе, контрактном управляющем
-
Дополнительная информация
Похожие закупки
ОпубликованаЗакупкаНачальная цена
20.03.2023Проведение открытого запроса предложений с правом заключения договора на выполнение составной части научно-исследовательской работы«Теоретические и экспериментальные исследования процессов получения полимеров для фоторезистов и антиотражающих покрытий для использования в процессе фотолитографии с длинной волны актиничного лазерного излучения 248 нм (KrF)», шифр «Фотолиз-ХФ»
20.03.2023Проведение открытого запроса предложений с правом заключения договора на выполнение составной части научно-исследовательской работы«Подготовка и освоение производства фоторезистов и антиотражающих покрытий для использования в процессе фотолитографии с длинной волны актиничного лазерного излучения 248 нм (KrF)», шифр «Фотолиз-П»
20.03.2023Проведение открытого запроса предложений с правом заключения договора на выполнение составной части научно-исследовательской работы«Испытания фоторезистов и антиотражающих покрытий для использования в процессе фотолитографии с длинной волны актиничного лазерного излучения 248 нм (KrF) в виде пленки», шифр «Фотолиз-М»
03.08.2022Поставка фоторезиста марки ФП-383 по ТУ 2378-005-29135749-2007
26.07.2022Поставка сухого пленочного фоторезиста714 057 ₽